端午前夕，国内科技圈因一则消息沸腾：供应链人士透露，苹果计划在2027年推出的iPhone19系列中应用屏下Face ID和屏下前摄技术，实现“真全面屏”形态。这一消息迅速登上热搜，引发果粉热议。

技术突破：屏下Face ID与前摄的挑战
自iPhone X引入全面屏以来，苹果的屏幕形态经历了从“刘海屏”到“药丸屏”的迭代，但挖孔区域始终存在。要实现真全面屏，需解决两大难题：一是屏下Face ID的透光率问题，二是屏下前摄的成像质量。

据最新专利显示，苹果通过创新技术提高了红外光的透光率，使Face ID模块可置于屏幕下方。同时，苹果与LG Innotek合作研发“自由曲面光学”技术，优化屏下前摄的成像效果。供应链人士透露，iPhone19将采用“四曲面无开孔”设计，搭配纯硅电池等黑科技，或成为iPhone诞生20周年后的重大变革。

市场反应：期待与质疑并存
消息传出后，国内果粉群体反应热烈。有网友表示：“真全面屏是果粉的终极梦想，终于等到了！”但也有声音质疑技术可靠性：“屏下摄像头是否会影响自拍效果？量产良率能否保证？”此外，有分析师指出，提前三年爆料可能影响现有机型销售，苹果需谨慎平衡技术革新与市场策略。

目前，苹果尚未对此消息作出回应，但业内普遍认为，真全面屏的实现将推动智能手机行业进入“无孔时代”。若iPhone19量产成功，或将成为继iPhone X后的又一里程碑。